光學(xué)系統(tǒng)	1米焦距
真空系統(tǒng)	真空
恒溫系統(tǒng)	38度恒溫
火花臺	大型火花臺 特殊材料
品牌	ARL（熱電）
型號	ARL3460/ARL4460/ARL3460 Advantage

ARL（熱電）ARL4460光電直讀光譜儀/火花直讀光譜儀 一、ARL 4460直讀光譜儀(OES)
ARL 4460 直讀光譜儀提供卓越的火花發(fā)射金屬分析性能，可快速可靠地對金屬質(zhì)量進(jìn)行控制。

ARL 4460 直讀光譜儀專為滿足從常規(guī)應(yīng)用到金屬科研的所有金屬分析需求而設(shè)計，是在各種實(shí)驗(yàn)室及惡劣環(huán)境中均可使用的**解決方案。                                   

   

 **性能的直讀光譜儀
？ 出色的檢測限、重現(xiàn)性和準(zhǔn)確性
？ 靈活及功能強(qiáng)大的 OXSAS 分析軟件
？ Key to metals 數(shù)據(jù)庫
？ 寬廣的金屬分析范圍
？ 可識別和計數(shù)夾雜物以及計算潔凈度的能力 
      使 ARL 4460 OEM 光譜儀出類拔萃的三個重要功能包括：
**電流控制光源  (CCS)，更快燒蝕樣品，分析時間更短，改善分析精密度
？ 時間分辨光譜(TRS) 系統(tǒng)，有效區(qū)分有用的分析信號和背景信號，達(dá)到更佳檢測限
？ 可選的 SparkDAT 功能可實(shí)現(xiàn)從單火花收集信息，離線分析金屬中的夾雜物
熱電直讀光譜儀ARL4460特點(diǎn)：
1.穩(wěn)定，可靠的硬件
2.**的工廠校正曲線 
3.**的光譜制造技術(shù) 
4.**的分析軟件
5.分析準(zhǔn)確度更高，分析速度更快 
6.分析痕量元素和氣體元素具有新的突破
7.分析范圍廣泛：適于分析鋼鐵，鋁，銅，鎂，錫，鉛，鋅，貴金屬等金屬材料
8.對操作人員無特殊要求 

的技術(shù)參數(shù)：
1.光普室設(shè)計: 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.1０C）,特殊鑄鐵材料制造,**多設(shè)置60 條  通道
2.試樣臺: 充氬樣品臺;內(nèi)置自循環(huán)水冷系統(tǒng)
3.光柵: 根據(jù)分析任務(wù),儀器配置以下三種光柵中的一種
4.1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
5.分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級而定
6.狹縫寬度: 入射狹縫:20um; 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
7.光電倍增管: 直經(jīng)Φ28mm,10級側(cè)窗管,光學(xué)玻璃或人造石英窗
8.光源: 電流控制光源(CCS) 
9.光譜儀控制: 利用CMOS技術(shù)的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡;每條通道均配置數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換器和衰減器分為41檔;測量電子部分的動態(tài)范圍與測量時間成正比,一般為2×106計數(shù)/秒
10.12位可編程衰減器 
11.時間分辨光譜(TRS) 
12.環(huán)境要求:室溫:16～30０C,**大允許溫差為50C/小時;相對濕度20～80% 　
13.電力要求:電壓230V（+10%-15%），保護(hù)性接地的單相電源 
14.（電壓波動超過±10%時需用5KVA穩(wěn)壓器）。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA;接地電阻<1Ω 15.歐洲標(biāo)準(zhǔn):89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁 
16.氬氣要求: 純度99.995%,**大含量5ppm(分析高Si樣品時,**大含量為2ppm) 
17.流量3.5升/分(分析時),0.35升/分(待機(jī)時) 　
18.幾何尺寸: 長1385(不計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm 
19.長1690(計激發(fā)臺) ×寬910×高1220mm　
20.系統(tǒng)重理: 約540公斤 　
21.輔助設(shè)備: 氬氣凈化器 瓶裝氬氣配氣系統(tǒng) 穩(wěn)壓器 制樣機(jī)　  
熱電直讀光譜儀ARL3460
熱電直讀光譜儀ARL3460主要用于測量金屬材料中合金成份及雜質(zhì)元素：
1、可測量的基體有：鋼鐵、鈷、鎳、鋁、銅、鉛、鋅、錫、鎂等。
2、測量試樣的**小厚度為0.05-0.1mm，視所分析材料而定。
3、測量試樣的直徑為3mm。需配特殊夾具。
4、如采用深紫外光室，可測量鋼鐵中的氮及銅中的氧
熱電直讀光譜儀ARL3460性能簡介：
1.、一米焦距機(jī)刻光柵
      一米焦距長度設(shè)計具有波長覆蓋范圍寬(120-850nm)、分辨率高、靈敏度好等優(yōu)點(diǎn)；由于機(jī)刻光柵可以產(chǎn)生較**次的光譜，所以選線更具靈活性，從而避免光譜干擾。
2、光譜室采用恒溫控制和連續(xù)抽真空技術(shù)
    由于溫度和壓力的變化是引起波長漂移的主要原因，所以嚴(yán)格的恒溫控制技術(shù)(38±0.1°C)和高度穩(wěn)定的真空環(huán)境(30mmHg/0.03乇)確保波長漂移的可能性**小。恒溫基礎(chǔ)溫度可按用戶現(xiàn)場條件設(shè)定。
3、光譜室內(nèi)置疲勞燈
    內(nèi)置式疲勞燈提高了光電倍增管的穩(wěn)定性，消除了光電倍增管的死時間，提高信噪比，延長使用壽命。
4、大直徑光電倍增管
     采用特定工作波長的大直徑光電倍增管(Æ28 mm ) 具有暗電流小，信噪比高、使用壽長等特點(diǎn)。
5、水冷式激發(fā)臺
    激發(fā)臺內(nèi)置循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，滿足大批量試樣的連續(xù)分析。
    激發(fā)臺面采用硬質(zhì)合金**磨損。
    每個基體有獨(dú)立的激發(fā)臺，避免樣品的交差污染。
6、第三代火花光源 ，具有以下特點(diǎn)：   
      高能預(yù)火花能力，克服了冶金組織的差異對分析結(jié)果的影響，特別適合于灰鑄鐵分析及不均勻試樣的分析。
7、聚光透鏡的特殊保護(hù)設(shè)計
    采用加熱和微氣流方式對透鏡進(jìn)行保護(hù)，聚光透鏡不需經(jīng)常擦拭。
8、工廠校正曲線
   節(jié)省用戶購買標(biāo)樣的費(fèi)用；
    用此校正曲線分析所獲得的準(zhǔn)確度滿足美國ASTM標(biāo)準(zhǔn)
  9、干泵系統(tǒng)，杜絕油蒸汽對光譜室的污染。
     儀器安裝后**可以投入使用。
10、功能強(qiáng)大的分析軟件
    基于WindowsXP環(huán)境下的WinOE分析軟件易學(xué)易用，功能強(qiáng)大，具有常規(guī)分析、系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)化、類型標(biāo)準(zhǔn)化、超標(biāo)自動報警、狀態(tài)監(jiān)測等多種功能；同時可與其它軟件并行使用?？砂从脩粢筇峁┒喾N格式的數(shù)據(jù)傳輸軟件
熱電直讀光譜儀ARL3460的技術(shù)參數(shù)： 
1.光譜室設(shè)計： 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.100C），特殊鑄鐵材料 
2.**多通道數(shù)： 60條 
3.分析時間隔： 視樣品類而定，一般不到一分鐘 
4.光柵： 根據(jù)分析任務(wù)，儀器配置發(fā)下三種光柵中的一種: 
5.1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm 
6.分辨率： 視光柵，出射狹縫和光譜等級而定 
7.狹縫寬度：入身狹縫：20um；出射狹縫：20 ,25 ,37.5 ,50 ,75 ,100 ,150um
8.光電倍增管： 直經(jīng)28mm,10級側(cè)窗管,熔融石英或玻璃外殼 
9.光譜儀控制： 利用CMOS技術(shù)的ARL MMB 386微處理器;帶狀態(tài)測試卡; 
10.每條通道配有模/數(shù)轉(zhuǎn)換器和衷減器, 
11.測量電子部分的動態(tài)范圍:166 .1 
12.自診斷控制系統(tǒng) 
13.12位可編程衰減器,在多媒體分析中擴(kuò)大動態(tài)范圍. 
14.環(huán)境要求： 室溫：16~300 C，允許的**大溫差為±500C/小時；相對濕度20~80% 
15.電力要求： 電壓230V（+10%/-15%），保護(hù)性接地的單相電源，（電壓波動超過±10%-15%需要用5KVA穩(wěn)壓器); 電流12A,頻率50或60Hz;功率2.5kVA；接地電阻<1Ω 
16.氬氣要求： 純度99。996%，**大含氧量5ppm（含Si高的樣品，要求氬氣**高含氧2ppm） 
17.流量：3.5升/分(特機(jī)時)，0.35升/分(待機(jī)時) 
18.外殼： 用強(qiáng)力冷卻風(fēng)扇進(jìn)行機(jī)內(nèi)防塵 
19.幾何尺寸： 長1385(不計激發(fā)臺)×寬910×高1190mm 
20.長1665(計激發(fā)臺) ×寬910×高1190mm 

21.系統(tǒng)重量： 約450公斤

---

ARL 3460 Advantage直讀光譜儀
 ARL 3460 Advantage 金屬分析儀提供三種配置，為滿足鑄造廠和金屬加工企業(yè)分析鑄鐵、鋼樣和鋁樣的需求。
ARL 3460 Advantage 金屬分析儀采用光電倍增管，具有高質(zhì)量、準(zhǔn)確及經(jīng)驗(yàn)證的技術(shù)和卓越的綜合性能。該型號性價比高，價格**吸引力，可分析元素范圍廣泛。
主要特點(diǎn)：
？ 可在工廠進(jìn)行校準(zhǔn)，安裝完成之后即可進(jìn)行樣品分析
      OXSAS 分析軟件
？ 簡單易用的單擊式常規(guī)分析啟動和完整的可示蹤性
？ 用戶可運(yùn)行各種分析，包括開發(fā)新的分析方法和校準(zhǔn)以及快速的高質(zhì)量常規(guī)分析
？ 用戶可訪問**的分析以便在屏幕上進(jìn)行比較
？ 簡易的圖形用戶界面和三種導(dǎo)航形式，包括柵格及樹狀視圖
        Key to metals
？ 全面的鋼鐵、有色金屬和對照檢索數(shù)據(jù)庫
？ 可以輕松地將多達(dá) 200 個 Key to metals 分級濃度數(shù)據(jù)直接輸出作為OXSAS分級檢測限
？ 光譜儀備有以多種語言描述化學(xué)成分、標(biāo)準(zhǔn)參比、應(yīng)用指南、機(jī)械屬性、疲勞性能等信息
ARL貴金屬分析儀
ARL 貴金屬分析儀可在火試金分析中簡化痕量貴金屬的分析。
火試金分析是分析礦石中痕量貴金屬的**方法。利用含直讀光譜儀的  ARL 貴金屬分析儀直接分析鉛珠中的痕量貴金屬，摒棄傳統(tǒng)的”烤缽試金法“，實(shí)現(xiàn)高效并具成本效益的分析。
傳統(tǒng)方法是將礦石樣品粉碎、研磨、稱重，然后加熱，并與含有鉛黃（氧化鉛）的熔劑、還原劑（如面粉）和化合物混合形成一種礦渣。氧化鉛被還原為金屬鉛，金屬鉛能定量萃取貴金屬。將熔融的混合物倒入一個模中，含有貴金屬的鉛沉到底部，而不希望要的雜質(zhì)在礦渣中漂浮在上部。冷卻后，去掉礦渣，將獲得的低部材料放入一個烤缽中，烤缽 至于一個敞開的烘箱中加熱。鉛被空氣氧化，并被烤缽吸收，僅剩下一個貴金屬片。然后根據(jù)貴金屬測定的目的，用各種技術(shù)分析該貴金屬片**傳統(tǒng)而言，烤缽試金法是昂貴、惡化環(huán)境并需要大量人員參與的方法。相反的，直讀光譜儀 (OES) 可以用于直接在鉛珠中測定貴金屬濃度，具有無可比擬的優(yōu)勢。
      ARL 貴金屬分析儀的優(yōu)點(diǎn)包括：
？ 摒棄了烤缽試金法，簡化并加速了分析步驟，從而減少烤缽、烘箱、能耗、化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備等的成本。
？ 利用簡單和干凈的技術(shù)來取代對環(huán)境不利和需要大量人員參與的烤缽試金法、樣品制備技術(shù)和分析。
？ 可獲得所有貴金屬的高質(zhì)量分析結(jié)果，甚至適用于**的應(yīng)用（例如，工廠控制和金屬計價）
？ 可在大約1分鐘內(nèi)同時分析樣品中的所有貴金屬。
？ 通過高穩(wěn)定性和低維護(hù)需求提供**的分析可用性。
？ 操作員只需少量培訓(xùn)即可操作。  
？ 可實(shí)現(xiàn)全自動樣品制備和分析，提高樣品分析量和和分析可靠性。
？ 可在工廠進(jìn)行校正，這樣在現(xiàn)場的安裝調(diào)試簡單快速
      重要功能：


**電流控制光源 (CCS)，可靈活選擇火花放電的所有參數(shù)：產(chǎn)生極低的電流，獲得了**的靈敏度、重現(xiàn)性，并在小試金片上有較小的火花面積。
？ 時間分辨光譜 (TRS) 系統(tǒng)：可設(shè)置相關(guān)的時間窗口，采集信噪比**好的數(shù)據(jù)，優(yōu)化痕量分析的靈敏度和精度。
？ 帶有1米焦距的 Paschen-Runge 真空光譜室，可提供出色的分辨率。
？ 靈活及功能強(qiáng)大的 OXSAS 分析軟件。
？ 特殊鑄鐵真空室外殼，恒溫控制在38℃的±0.1°。
？ 氬氣流保護(hù)、自循環(huán)水冷系統(tǒng)工作臺。
？ 符合人體工程學(xué)設(shè)計的機(jī)柜可快速輸入樣品并對其進(jìn)行鑒定

      可用于：貴金屬工業(yè)

---

ARL QUANTRIS直讀光譜儀
ARL QUANTRIS直讀光譜儀采用的高性能CCD技術(shù)，具有檢測限低和穩(wěn)定性好的特點(diǎn)，而且能夠靈活分析各種金屬樣品中的合金元素和微量元素，如鋼鐵、鋁合金、銅合金等。 
ARL QUANTRIS直讀光譜儀采用的高性能CCD技術(shù)，具有檢測限低和穩(wěn)定性好的特點(diǎn)，而且能夠靈活分析各種金屬樣品中的合金元素和微量元素，如鋼鐵、鋁合金、銅合金等。
 
？ 全譜波長范圍覆蓋從129至780nm，包含了金屬行業(yè)全部所需分析元素
**臺能夠分析低碳、低硫、低磷和低氮的CCD光譜儀
？ 根據(jù)不同的分析材料，光源條件可調(diào)
？ 單一光譜室，維護(hù)包養(yǎng)簡單方便
？ WindowXP環(huán)境下的WinOE分析軟件，多功能多任務(wù)