快捷的分析性能（僅15-30秒） ；

動態(tài)范圍：從ppm—% ；

開闊的火花臺以及特殊的小樣品夾具，保證儀器適用于各種形狀的金屬樣品分析 ；

精確：優(yōu)于1%的偏差 ；

優(yōu)異的氮、氧元素分析性能 ；

高穩(wěn)定性，高可靠性 ；

可選配多塊高性能CCD檢測器系統(tǒng)，根據應用需要最多達16塊CCD檢測器，增加儀器基體及元素分析升級的靈活性 ；

高等級標樣標定； 

PC控制的變頻高能預火花（HEPS） ；

高精度的溫度與壓力控制 ；

高級軟件功能，操作便捷，易于掌握 

適用于各種金屬材料分析    

光學系統(tǒng)

巴邢-龍格架法，焦距：500 mm. 

高性能全息衍射光柵，光柵刻線2700條/mm和3600條/mm 

每塊CCD 3,648 像素，最大58,368 像素的分辨率(16 *3,648 像素) 

譜線波長：130 - 800 nm由衍射光柵的選擇決定。光柵的選擇由制造商根據分析元素和分析程序來決定 

密閉的真空光學室可以避免灰塵、光線的干擾 

激發(fā)平臺

開放式的火花臺,可以分析重達20Kg的各種形狀的樣品 

電極易于拆卸維護 

氬氣吹掃火花臺，支持快速樣品更換 

不同樣品的適配器可滿足各種樣品的需求（可選） 

激發(fā)光源

全自動控制火花源 

半導體控制放電激發(fā) 

1 到 100 A等低氬氣消耗 

使用便捷的樣品離子體電流 

放電參數由密碼保護 

特別的分析要求可有不同的激發(fā)參數 

火花光源放電穩(wěn)定，不受供電系統(tǒng)波動的影響 

激發(fā)參數由激發(fā)線和分析程序標定和控制 

火花源可有多種參數設置 

火花頻率: 200 到 to 1000 Hz (可控) 

火花持續(xù)時間 10-10000 us (可控)  

光譜儀控制系統(tǒng)和數據讀出系統(tǒng)

電子系統(tǒng)具有微處理器控制的多通道積分和數據系統(tǒng)采集功能 

高速16位模數轉換器 

ISP混合信號Flash微控制器100MHz 

多種連接源 

高速讀出及高速USB接口支持快速數據控制與處理系統(tǒng) 

最多16塊CCD模塊，由制造商根據應用情況選擇 

WinLab10 分析軟件

計算每種元素的校正曲線需考慮到各種基體（參考線） 

智能化 : 用一組標樣即可完成標準化 

便于操作的用戶圖形界面 

創(chuàng)建或修改分析程序 

常用的操作功能鍵 

可選擇的輸出方式 ( 強度，強度比，未校正的濃度，校正后的濃度等) 

可選擇的濃度單位 ( ppm, % ) 

通用標準化 

微型標準化 

校正元素間的干擾 

自動標準化 

標準偏差和相對標準偏差功能 

合金類型鑒定（UNI, ISO, DIN, EN, ASTM, JIS, BS, 等） 

標樣庫 

國際標準物質庫

牌號鑒定 

支持C當量或其他參數的計算 

可標記超出工作曲線范圍的元素分析結果 

具有根據分析時間或激發(fā)次數自動再校正功能 

統(tǒng)計功能軟件

統(tǒng)計計算 

可打印所有激發(fā)結果或是最多100次的激發(fā)平均結果，及其標準偏差和相對標準偏差 

硬盤存儲數據便于今后的研究分析，可連接外部計算機或中心系統(tǒng) 

尺寸    

尺寸(Dimension):  PL93x W40 x H63 cm     重量(Weight): 約 100 Kg 

電源

220V +/- 10%，單相（single phase），50/60 Hz， 10 A， 1.0 KVA